鍍鉻過程與原理

2022-10-09 08:06:03 字數 1374 閱讀 6116

1.隨著科學技術的發展及對環境保護的重視,在傳統鍍鉻的基礎上,相繼發展了微裂紋鉻和微孔鉻、乳白鉻、松孔鉻、黑鉻、低濃度鍍鉻、高效率鍍硬鉻、稀土鍍鉻及三價鉻鍍鉻等新工藝,使鉻鍍層的應用範圍進一步的擴大。鍍鉻工藝發展至今,經過調高了漫長的道路,為了解鍍鉻工藝的發展歷程,有必另要首先回顧鍍鉻發展簡史。

2.2023年,becquerel首先提出了從二價及三價鉻溶液中鍍鉻。 3.

2023年,bunsen自煮沸的氯化亞鉻溶液以電解法得到鉻的薄膜。 4.2023年,geuther自此開始在含鉻酸酐的溶液中製得純鉻。

5.2023年,garveth及curry對由鉻酸酐電解制鉻 6.:的方法提出詳細報告,認為geuther所用的純鉻酸酐溶液是不可能沉積鉻,溶液中必須加入其他酸類或鍍鹽類方能析出鉻。

這兩研究者所用鉻酸酐濃度為新增物為硫酸,最適當的濃度為鉻酸的體積分數1%。 6.2023年,sargent推薦含鉻酸酐質量分數為20% 用強。

30%、硫酸鉻體積分數為0.30-/0—0.5%的鍍鉻溶 (並將此溶液中硫酸鉻的混合比率、溫度、電度等變化後加以試驗。

在鉻的沉積理論方面發表了精闢的理論。 7.2023年,hambuechen推薦200-600g/l鉻酸及10 n 50g/l氟化物鍍鉻溶液。

haring及barrow對鉻酸酉獲得橢及硫酸鍍鉻特殊現象進行研究。同年美國印:1m地將硬鉻鍍層應用於印刷版,所用的溶液為250g/l曰酸酐、硫酸鉻及l碳酸鉻。

fiuk砌毛得多定了硫酸根的濃度對鍍層光澤範圍的影響,認為溶液倚;中維持鉻酸與硫酸根的比值為100: 1時較合宜。 8.

在此時間前,將鍍鉻已劃分為裝飾性鍍鉻及硬鍍鉻並開始得到廣泛應用。當時所公尺用飯殆冶儀裡為250g/l鉻酸酐5g/l硫酸,作為裝飾性鍍鉻楊一直被廣泛應用至瓜,該溶液通常稱為sargent溶液。也被稱為標準鍍鉻液(通用鍍鉻溶液)。

9.2023年,schneidewind對鍍鉻溶液的電流效率三價鉻的影響有詳盡的報告,指出電流效率隨看電流密度上公升而增加,隨著溫度的上f15用恤價鉻隨著鐵雜質的混入而增加【電鍍裝置廠】並影響光澤範圍。 均勻度、haring對陽極材料加以研究,認為鉛合金最合適。

blum研究了鉻的孔隙度對於腐蝕的影響。pierso研究了電流密度及溫度對於耐磨性的影響。blum研究鉻的疏鬆度對於腐蝕的影響。

cymboliste借助光學顯微鏡研究了鉻的結晶組織與其物理效能之間的關係。 10.92023年,united chromium公司推薦srhs(自調高速)鍍液。

這類鍍液採用雙催化劑體系,通常是硫酸鹽及氟矽酸鹽,其捧簡單而且是硫酸鹽及氟矽酸鹽,其操作、控制都很聞從上述簡史中可以看到, 自2023年genther提出從鉻酸酐水溶液中電鍍鉻的設想以後,經過70牛的努力於2023年左右sargent、fink及lieberich等研者才研究成功具有實用價值的鍍鉻溶液及工藝並投入工業生產,故對於傳統的鍍鉻溶液稱為沙琴脫(sargent)溶液。

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