型號：鎳封500
特性與用途：
1.於亮鎳上形成布滿微細不導電微粒的鍍層，可達10，000個/cm2以上。
2.防腐蝕能力強，鍍層柔韌，富於延展性。
3.易於上鉻，適合作為微孔鉻的底層。
溶液組成及操作條件：
硫酸鎳 250-300克/公升
氯化鎳 50-60克/公升
硼酸 40-45克/公升
光亮劑501 0.4-0.6毫公升/公升
調整劑502 1-2毫公升/公升
柔軟劑503 4-6毫公升/公升
主粉劑504 0.5 -3克/公升
輔粉劑505 0.2-1克/公升
溫度55℃
ph3.8
型號：dni-22#
特性與用途：
1. 走位能力強，低電流效率良好。
2. 鍍層亮白，延展性好。
3. 適用於形狀特別複雜工件的電鍍，如電池殼內孔電鍍。
溶液組成與操作條件：
硫酸鎳 180-250克/公升
氯化鎳50-80克/公升
硼酸40-50克/公升
dni鍍鎳深鍍劑 1-2毫公升/公升
dni-2a柔軟劑10毫公升/公升
dni-2b補給劑0.1-0.5毫公升/公升
dn-01濕潤劑 1-3毫公升/公升
ph 4.2-4.8
溫度 50-65℃
dk 0.1-1.0a/dm2（滾鍍）
型號：m110
特性與用途：
1.鍍層潔白，走位好。
2.鍍層光亮性、柔軟性、套鉻性好。
3.有機分解產物少，抗雜質能力強。
4.極佳的分散效能，操作範圍寬。
溶液組成與操作條件：
硫酸鎳 180-250克/公升
氯化鎳 50-60克/公升
硼酸 40-50克/公升
m-110a走位劑 6-8毫公升/公升
m-110b光亮劑 0.3-0.6毫公升/公升dn-01濕潤劑 1-3毫公升/公升
ph 4.0-4.8
溫度 50-65℃
dk 1-8a/dm2
型號：hni-10
溶液組成與操作條件：
1. 適用於作為多層鎳系統中的半光亮鎳底層。
2. 鍍層結構為圓柱體。
3. 鍍層填平性、柔軟性佳，與光亮鎳層的電位差可達120-160毫伏，保證了雙層鎳具有優越抗蝕性。
4. 鍍液穩定性高，不易分解。
5. 鍍層具有光澤度，高平滑度，可縮短光亮鎳電鍍時間及鎳消耗成本。
特性與用途：
硫酸鎳 260-320克/公升
氯化鎳 40-55克/公升
硼酸 40-50克/公升
hni-10a柔軟劑 6-8毫公升/公升
hni-10b填平劑 0.4-0.6毫公升/公升dn-01潤濕劑 1-3毫公升/公升
ph 3.8-4.5
溫度 50-65℃
dk 2-6a/dm2
型號：rni-3
特性與用途：
1.出光速度快，外觀近似鉻鍍層；
2.光亮性及整平性佳；
3.有機分解產物少，槽液不易老化；
4.鍍層均勻，操作範圍寬，容易操作
5.適用於滾鍍。
溶液組成及操作條件：
硫酸鎳 180-250克/公升
氯化鎳 50-60克/公升
硼酸 40-50克/公升
rni-3a走位劑 5-8毫公升/公升
rni-3b光亮劑 0.3-0.6毫公升/公升dn-01潤濕劑 1-3毫公升/公升
ph 4.0-4.8
溫度 50-65℃
dk 0.1-1.0a/dm2
型號：bni-301
特性與用途：
1.快速出光，提高產能。
2.鍍液分散效能好，套鉻效能好。
3.有機分解產物少，槽液不易老化。
4.整平性佳，操作範圍寬。
5.適用於掛鍍。
溶液組成及操作條件：
硫酸鎳 250-300克/公升
氯化鎳 50-60克/公升
硼酸 40-50克/公升
bni-301a走位劑 5-8毫公升/公升
bni-301b光亮劑 0.3-0.6毫公升/公升dn-01潤濕劑 1-3毫公升/公升
ph 3.8-4.5
溫度 50-65℃
dk 1-8a/ dm2
型號：hb86
特性與用途：
1. 光亮速度快，填平性極佳。
2. 特別適用於鐵管家具，燈飾及其它大平面鍍件直上鎳工藝。
3. 對各種雜質，不純物容忍高。
溶液組成與操作條件：
硫酸鎳 180-250克/公升
氯化鎳 50-80克/公升
硼酸 40-50克/公升
hb86a走位劑 6-10毫公升/公升
hb86b光亮劑 0.3-0.6毫公升/公升dn-01潤濕劑 1-3毫公升/公升
生產維護：
hb86a走位劑 150-250毫公升/kahhb86b光亮劑 100-150毫公升/kah型號：rni-5
特性及用途：
1．鍍層白亮，柔軟性佳。
2．走位效能極佳。
3.鍍層緻密，不易起鏽點及發黃。
4.尤其適用於鋅基合金及複雜工件。
5.槽液穩定，有機雜質少
溶液組成及操作條件：
硫酸鎳 180-250克/公升
氯化鎳 50-60克/公升
硼酸40-50克/公升
rni-5a走位劑 5-8毫公升/公升
rni-5b光亮劑 0.3-0.6毫公升/公升dn-01濕潤劑 1-3毫公升/公升
ph 4.0-4.8
溫度 50-65℃
dk 0.1-1.0a/dm2
型號：sni-20
特性與用途：
1.作為半光亮鎳與光亮鎳的中間鍍層，增大電位差值，提高耐蝕性。
2.鍍層光亮性好，脆性小。
3.鍍層含硫量可達0.15%以上，與半光亮鍍鎳層的電位差可達160-180毫伏。
4.單劑使用，操作簡便。
5.鍍液穩定性好，有機分解產物少，槽液不易老化。
溶液組成及操作條件：
硫酸鎳 250-300克/公升
氯化鎳 35-45克/公升
硼酸35-40克/公升
sni-20新增劑 4-6毫公升/公升
dn-01濕潤劑 1-3毫公升/公升
ph2-4
溫度40-50℃
dk1-3a/dm2
型號：rni-3#
特性與用途：
1.出光速度快，外觀近似鉻鍍層。
2.光亮性及整平性佳。
3.有機分解產物少，槽液不易老化。
4.鍍層均勻，操作範圍寬，容易操作。
5.適用於滾鍍。
溶液組成與操作條件：
硫酸鎳 180-250克/公升
氯化鎳 50-60克/公升
硼酸 40-50克/公升
rni-3a走位劑 5-8毫公升/公升
rni-3b光亮劑 0.3-0.6毫公升/公升dn-01潤濕劑 1-3毫公升/公升
ph 4.0-4.8
溫度 50-65℃
dk 0.1-1.0a/dm2
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鎳鉬鐵合金生產鉬酸銨工藝
一 工藝環節 1 破碎 製粉 焙燒 2 鹼浸 3 離子交換 4 淨化除雜 5 離子交換 6 痠沉 7 烘乾 過篩 8 包裝 成品。二 工藝條件 1 破碎 製粉 焙燒 合金經破碎製粉達到200目之後混合純鹼，焙燒。2 焙燒料直接水浸形成鉬酸鈉溶液，經壓濾後固液分離。渣做鎳渣處理，溶液待用做離子交換使用...