第四編等離子電視製造裝置
第一章第一節溼洗裝置
1.前言
最近等離子電視在各地常能看到，機場、展示會等大型顯示器都用等離子電視。其螢幕大視角廣、精度高的特點很顯著，並且逐步解決了質量輕、耗電量低、**低的課題。清洗裝置也被要求具有高處理能力、高能清洗時要求節省空間、等離子電視向生產的低成本化發展也在不斷研究。
2.關於清洗裝置的想法
2.1高吞吐率
伴隨基板向大型化發展，高吞吐率是降低執行成本的最重要的專案。為實現高吞吐能力就以下專案講述。
①去除粒徑大的微粒（10um以上）使用刷子及洗滌劑，如何提高效率是重要的。
關於洗滌劑的選擇，要看微粒的性質是有機質還是無機質、附著物是化學的還是物理的、是否與電氣相結合，這些方面也要鑑別選擇。
例如使用由無機鹼系的介面活性劑與溶劑構成的洗滌劑時,如果是清洗只是由有機質和無機質構成的微粒,其洗滌劑可以以前者為主體。即使是有機質微粒,如果是樹脂系（含粘接劑）的微粒,也要選擇溶劑含有量多的。並且需要設定適當的濃度溫度條件。
去除物理的附著微粒時刷子最適合，特別是線徑為0.15~0.2mm的尼龍刷子較好。
②快速排掉大型基板上的清洗水，實現高處理率。
各槽使用過的清洗水/洗滌水怎樣不會被帶入下一工序，如何保持含微粒的洗滌水的清潔性是很重要的。為此採用使用高壓縮空氣的液體切割（liquid cutter）。
我公司作為別的解決方案，採用新開發出air jet shower(a/j)。
如圖1所示。此方法即純淨水→純淨水+空氣（2個水流）→間歇高壓縮空氣的工序在數秒內重複、純淨水挨著基板的部分不會形成多餘的水膜，並且有防止帶入下一工序的作用。2個水流的噴頭還具有氣穴現象。
該法有助於提高清洗度、增加排水效果、縮短清洗裝置的長度,從而實現高處理效率。
2．2 取代uv改質的等離子改質（常壓）清洗裝置
表面改質是重要專案、是在層壓或者電阻塗敷中必須進行的。以往的依賴uv照射進行改質,今後以等離子照射(常壓)主流。本公司從2023年開始開發銷售常壓等離子裝置。
其理由是執行成本低。為進行表面改質,用空氣引起等離子也可以,一般需要n2、ar、o2等氣體。
即使使用**高的氣體，預計執行成本能夠削減50%~70%。現在已經在lcd的前工序、後工序、模組工序、彩色過濾及oled的製造工序或者ito、cr噴鍍前工序開始研究採用，我認為接著將用於等離子電視工序中。
2．3 空氣切割刀乾燥
乾燥以氣割刀為主體，氣割基板60英吋以上時的空氣消耗量也大。工廠需要配備大容量的壓縮機，增加執行成本。因此氣割刀設定上下一對，空氣消耗量為3000nl/min。
但是也有用高壓環狀鼓風機進行氣割的。
需要更乾燥的狀態的工序中，也有在裝置中加入熱空氣的。
圖3是清洗裝置的外觀圖。
3． 清洗裝置的分類
等離子電視製造工序中的清洗裝置分前、後基板的裝置，前基板的裝置種類有①接納、②厚膜印刷前、③噴鍍前、④漏網印刷前；後基板有①接納、②漏網印刷前、③層壓前、④噴砂、⑤感光漿料塗敷前的裝置。
按照工序不同選擇清洗裝置以及使用的洗滌劑，增加與含改質玻璃的粘結力，同時提高清洗能力，並且在層壓時能夠去掉異物突起。清洗機規格大致分為使用洗滌劑時、只用純淨水、或者乾燥工序（乾燥、表面改質）所需的規格。任何情況都可以將滾刷、氣噴、高壓水槍、等離子改質、等離子清洗、ir、cp等組合。
關於清洗漏網罩用的裝置另外說明，有除去網眼堵塞物的甘油清洗劑、進行浸漬、us、涮洗、乾燥的裝置。
4．結束語本章對等離子電視清洗裝置的高吞吐率、裝置的省空間化、新的等離子改質、等離子清洗器進行了介紹。這些都是今後有助於環保、安全的、能夠降低執行成本的提案。
第二章第一節噴鍍裝置
1．前言
fpd 28英吋左右的電視稱a-sitft(lcd),36英吋以上的大型fpd稱為等離子面板（等離子電視），作為民用的量產體制現在已就緒，現在各生產廠家都在積極地增加對大型高畫質晰度壁掛電視的設計。有關面板尺寸，不斷有50~60英吋的大型面板達到實用化階段的公布發表，如何提高發光效率、達到高畫質晰度、低成本，成為製造大型面板技術的重要開發課題。等離子電視製造工序中，在裝置及其成膜成本中，薄膜成膜裝置占有非常的地位。
大型化基板對於噴鍍裝置的要求越來越高，下面對噴鍍裝置有代表性的要求列舉如下：能夠高速形成均勻膜質、能夠安穩搬運60英吋以上的大型基板、裝置的占有面積小。本節針對大型面板製造技術的薄膜成型工序中的噴鍍裝置進行介紹。
2． 等離子電視用的並列式噴鍍裝置
這裡講述本公司的並列噴鍍裝置是如何適應上述要求的。
2．1 大型基板的均一高速鍍膜技術
在以往的並列噴鍍裝置中，採用基板裝在稱作托架的臺車上，在噴鍍陰極前面以一定的速度使其通過，形成光膜的動態成膜法（旁路成膜法）。在基板通過的高度方向對膜質進行調整的話、基板的長度方面能夠鍍膜均勻，這種方法最適合大型基板的鍍膜。
與本公司的並列式噴鍍搭載的陰極（cathode），靶使用效率達到百分之40以上。本公司準備了能夠使用ito低電壓噴鍍法（本公司已取得專利）的和cu靶板厚30mm的長期型兩種，能夠配合等離子電視用的大型基板。這一次裝載了新開發的ito用陰極，提高了以往的靶使用效率、鍍膜速度也提高了2倍。
這樣可以減少了裝載陰極台數、降低了執行成本。
本公司裝置中裝載的新開發的陰極的特徵如下：①鍍膜速度是本公司原來的陰極的2倍、由於裝載陰極台數減少，裝置的長度也縮短、使托架臺.數減少成為可能。
②提高了靶的使用效率、靶的壽命延長1.8倍、鍍膜速度是原來的2倍、靶的交換週期與現在使用的陰極同等。③與以往的低電壓型陰極一樣，能夠得到同等程度的低電阻ito膜。
2．2 大型基板的均勻加熱技術
並列式噴鍍裝置中一般採用成膜前基板預先加熱、降低排出氣體的操作。以往的並列噴鍍裝置中，在噴鍍室前的加熱室中進行預先加熱，插入噴鍍室後由托架一邊進行搬運，最終進行再次加熱，來調整基板內的溫度分布。
新型並列式噴鍍裝置中，以更均勻的基板溫度分布和降低排放氣體為目標，裝載了能夠在加熱室內保持均勻的溫度、並且能夠快速公升溫的新型加熱器，在噴鍍室以保溫為主的加熱方式。
2．3大型基板的的安穩搬運技術
在以往的並列噴鍍裝置中，在台車兩邊的基板托架上，基板被垂直裝載。因此基板卸取時基板托架必須水平展開，使基板的光膜面朝下進行卸貨。但是這種方式對超過60英吋的大型基板存在下列問題。
①對於超過60英吋的大型基板，在卸貨時水平支援基板會損傷基板。②基板在裝置上保持垂直，基板加熱或者成膜時基板會引起變形或翹起，相對於基板托架的變形，基板失去自由度，有損傷基板的危險。
本公司的新型並列噴鍍裝置是使基板的托架整體傾斜、基板預先傾斜的方式，具有如下特徵。①基板卸下時，基板的托架不需要水平展開、基板就能卸貨。同時、基板托架展開所需要的裝置及時間可以免去，加快生產節奏。
②對於基板托架上的基板不需要積極的保護，對於加熱中/成膜中、或者基板托架的變形都能適應。另外不需要基板的垂直裝置、也省去了零件的清洗。
2．4 占有面積小的裝置
以往的並列噴鍍裝置的構成：真空槽（裝入室、加熱室、噴鍍室、取出室）縱向排列，托架在前後巡迴、公升降機**盤）與這些相連構成空氣搬運系統、並設有卸去基板的位置。因此裝置較長，60英吋級別的等離子電視的電極鍍膜裝置全長約達到35公尺。
本公司發揮前述托架整體傾斜方式的特徵基板卸下時的位置優勢（可以縮短卸下時間），縮短了裝置的間歇時間。而且，與以往的兩面同時鍍膜不同，採用單面鍍膜，即在鍍膜室的中途折回往返的鍍膜構造，這樣雖然是大型基板的鍍膜裝置但是占用面積小。
3. 等離子電視用並列式噴鍍裝置的未來展望
現在作為等離子電視用並列鍍膜裝置，幾乎都需要透明電極膜ito和sio2+ito成膜裝置，以及cr/cu/cr電極膜和cr/ al/cr成膜裝置。但是，考慮到噴鍍方法的優點即鍍膜均勻性（易控制型）以及修理維護方面，現在用熱蒸法鍍的氧化鎂將來有可能用噴鍍法鍍膜。本公司正在積極開發用噴鍍法來鍍氧化鎂的技術。
關於cr/cu/cr代表的電極膜、今後要使用高使用效率的陰極。為了實現等離子電視的1英吋=1萬日元的目標，需要進一步降低電力消耗、節省裝置空間。
第二章第一（二）節噴鍍裝置atx-700
1.前言
在99年時等離子電視的生產數量達到10萬台，當時**，按這樣的增長速度，到2023年年產量會達到100萬台。市場情況儘管沒有預期的那麼好，但是對等離子電視的潛在需求應當是十分旺盛的。在降低銷售**和具有魅力的節目內容出現後，市場的急速增長是確定無疑的。
現在許多等離子電視廠家都瞄準未來的市場，開始建造新一代產品的生產工廠。在提高生產裝置規模時，怎樣降低成本來生產高效能的面板，將成為要點。
本節我們對用於pdp的薄膜材料與其成膜裝置進行介紹。
透明電極
作為顯示器前面板的第一層透明導電膜,許多等離子電視廠家都使用ito。而且作為追加的鹼性勢壘層是否有必要使用sio2等，根據使用的玻璃基板的種類而變化。一般用於lcd的鹼石灰玻璃基板，使需要sio2層的。
通常，膜的厚度是100~300,此層使用rf噴鍍方法製成。
ito膜一般使用dc噴鍍。膜的電阻值和透光率的物理特性是最重要的特性。1.
1mm厚的基板上鍍成電阻值10/sq的膜時,透光率為89%。圖1顯示一般ito膜的透光率和膜厚度的關係。
ito膜厚約為1500時，體(bulk)電阻平均為150μωcm。決定體電阻的主要要素是ito膜的結晶性和化學計量。而且這些特性越是均勻，膜的老化性也越均勻，現在各種溶液中，花費多少時間以及每秒多少的老化率，從數到數百單位能夠正確地進行**。
ito成膜工藝中，靶的使用效率是非常重要的因素，現在多數鍍膜裝置達到40%以上的效率。並且通過提高靶的壽命，除去球粒的附著也很重要。不使球粒產生，能夠發生擊穿及使其激減，其結果，成膜後的膠片上的附著異物及釘狀物變少，能夠得到非常光滑的膜表面。
3.匯流排電極及旋轉陰極
噴鍍鍍膜裝置能製造的另乙個pdp零件是匯流排電極材料。該零件採用crcucr或者cralcr,數μm厚的cu或者al的導電層夾在1000~2000的鉻層中。這個多層的電阻率約為0.
2/sq。
這些金屬薄膜要求的特性是膜厚的均勻性、電阻值、密封性、防止交叉汙染、孔徑、老化特性、低膜應力。這些各要求特性必須通過成膜裝置的機械設計、工藝的最佳設定來解決。
尤其是作為中間膜的cu及al鍍膜時，膜厚1~2μm，要求高速成膜率和靶的較長使用壽命，本公司引進的旋轉靶可以作為有效的解決策略。（圖2）
工藝裝置變更管理規範
企業標準 中國石油天然氣集團公司發布 目次前言 1 範圍 1 2 規範性引用檔案 1 3 術語和定義 1 4 職責 1 5 管理要求 2 5.1 變更範圍 2 5.2 變更申請 審批 2 5.3 變更實施 3 5.4 變更結束 3 6審核 偏離 培訓和溝通 3 6.1 審核 3 6.2 偏離 3 6...
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