MOSFET與IGBT的應用區別

2021-03-03 20:35:28 字數 3632 閱讀 3688

mosfet與igbt

power mosfet優點是高頻特性十分優秀(mosfet可以工作到幾百khz,上mhz,以至幾十mhz,射頻領域的產品),驅動簡單(電壓型驅動),抗擊穿性妤(沒有雪崩效應)

power mosfet的弱點是高耐壓化後之功率損失激增。缺點是耐高壓的器件,導通電阻大.在高壓大電流場合功耗較大,因此大功率(1500w以上)有些困難。

對於mosfet來說,僅由多子承擔的電荷運輸沒有任何儲存效應,因此,很容易實現極短的開關時間。power mosfet其高頻特性十分優秀,所以mosfet可用於較高頻率的場合。在低電源電壓下動作時之功率損失(power loss)遠低於以往之元件,但是問題是,在高壓的"開"狀態下的源漏電阻很高(壓降高),而且隨著器件的電壓等級迅速增長(耐壓越高導通電阻越大,除了採用coolmos管芯的以外)。

因而其傳導損耗就很高,特別在高功率應用時,很受限制。

igbt優點是驅動簡單,導通壓降小,耐壓高.功率可以達到5000w。

igbt弱點是開關頻率最大40—50khz,開關損耗大而且有擎拄效應。

和mosfet有所不同,igbt器件中少子也參與了導電,igbt是採用mos結構的雙極器件導通電阻小(發熱就少)高耐壓,因而可大大降低導通壓降。但另一方面,儲存電荷的增強與耗散引發了開關損耗、延遲時間(儲存時間)、以及在關斷時還會引發集電極拖尾電流。同時存在的電流尾巴和較高的igbt集電極到發射極電壓將產生關閉開關損耗。

這樣就限制了igbt 的上限頻率由以上分析可知,igbt適用於高功率和高壓的場合,但是因為電流尾巴的原因,頻率範圍受限,開關損耗也很明顯;mosfet關閉時電流下降速度快,可用於較高頻率範圍內,但由於開通漏電阻高,在較高的電壓等級下,導致的開通損耗顯著,不適用於高功率電路中。

驅動兩種電路可以一樣,只是igbt輸入電容mos大故需提供更大的正負電壓的驅動功率。

總之,mosfet一般在較低功率應用及較高頻應用(即功率<1000w及開關頻率≥100khz)中表現較好,而igbt則在較低頻及較高功率設計中表現卓越。就其應用,根據其特點:mosfet應用於開關電源,鎮流器,高頻感應加熱,高頻逆變焊機,通訊電源等等高頻電源領域;igbt集中應用於焊機,逆變器,變頻器,電鍍電解電源,超音訊感應加熱等領域。

用igbt代替mosfet的可行性分析

一、引言

電力電子裝置正朝著高頻、高效、高可靠、高功率因數和低成本的方向發展,功率器件則要求高速、高可靠、低損耗和低成本。目前所用功率器件主要是功率mosfet和igbt.igbt 是為降低功率mosfet的導通電阻rds(on),將雙極電晶體的集電區電導調製效應引入mosfet的漏極,實現了漏極高阻漂移區的電導調製效應,從而降低了igbt的導通壓降vce (on).

從製造工藝上講,mosfet和igbt的不同只是原始si材料的不同,mosfet採用n-n+同型外延si片,igbt採用n-p+異型外延si片,在同型外延si片上用mosfet工藝生產出的器件為mosfet,在異型外延si片上用mosfet工藝生產出的器件為igbt.n-p+結的引入使得igbt為乙個四層(n+p n-p+)結構。所謂電導調製是指處於正偏的n-p+結,由p+向n-區注入少子空穴,實現了n-區的電導調製,使n-區的電阻率降低。

因為少子注入,在關斷期間就存在少子復合,所以igbt的開關速度要慢於mosfet.那麼在多高的開關頻率下,igbt可以替代mosfet?要做具體分析。

二、為什麼要取代mosfet?

降低mosfet的rds(on)是高壓功率mosfet發展中很難解決的問題,降低rds(on)的主要辦法是增加晶元面積。面積增加,速度下降,生產合格率降低,而成本大幅度提高。在相同電壓和電流下,igbt晶元面積不足mosfet晶元面積的1/2,而且開關速度近似,同時成本降低一半。

所以用igbt代替mosfet可在效能不變的情況下,大幅度降低成本,而且對於幾千安培、數千伏特的應用,mosfet是不能實現的。

三、用igbt代替mosfet的可行性

1.igbt和mosfet電效能的不同相同功率容量的igbt和mosfet的主要區別是igbt 速度可能慢於mosfet,再者就是igbt存在關斷拖尾時間長,死區時間也要加長,從而影響了使用開關頻率。表1是apt公司生產的igbt和mosfet可互換器件的主要電引數。

表1由表1可見apt30gp60b和apt5010b2ll相比,toff較長,而矽片面積asi和歸一成本,apt5010b2ll均是apt30gp60b的兩倍。

2.igbt和mosfet可使用開關頻率f**和結溫tj在大功率器件的使用中,所有引數都受器件結溫tj的限制,手冊中給出tjm=150℃,而使用中要控制tjm≤125℃,有試驗表明tj 每增高2℃,可靠性下降10%。所以一種器件可否代替另一種器件的首要考慮是在相同應用條件下,tj是否超過125℃,其次要考慮在相同的應用條件下,可使用的開關頻率可否近似。

器件應用中的總功耗pt:pt=(tj-tc)/rthjc=pc+ps+pd+pr

pc=d.ic.vce(on)(d.id2.rds(on))為導通損耗,d為占空比,vce(on)為導通壓降,rds(on)為導通電阻,ic為應用電流。

ps=fs(eon+eoff)為開關損耗,fs為使用開關頻率,eon和eoff為乙個週期內的開通和關斷能量損耗。

pd=△vg.qg.fs為驅動損耗,△vg為通導到關斷柵電壓,qg為柵電荷。

pr=(1-d)。vr.ir為關斷損耗,vr和ir分別為反向電壓和電流。

pd、pr和pc、ps相比一般是很小的,因此可忽略不計。

∴(tj-tc)/rthjc=d.ic.vce(on)(d.

id2.rds(on))+fs(eon+eoff)而tj=rthjc×[d.ic.

vce(on)+fs(eon+eoff)]+tc對於igbt<1>tj=rthjc×[d.id2.rds (on)+fs(eon+eoff)]+tc對於mosfet<2>fs=[(tj-tc)/rthjc-d.

ic.vce(on)]/(eon +eoff)對於igbt<3>fs=[(tj-tc)/rthjc-d.id2.

rds(on)]/(eon+eoff)對於mosfet <4>對於<1>-<4>式,除eon和eoff之外的引數均是應用條件和手冊中可查到的。對於igbt,

eon和eoff在手冊中可查到測試條件下的測試值,mosfet手冊中並不給出。所以eon和eoff 要根據應用條件和eon、eoff的測試方法來計算。

eon=∫τon0v(t)。i(t)dt<5>eoff=∫τoff0v(t)。i(t)dt<6>對於電感負載<5>和<6>近似為:

eon=1/2v.i.τon<7>eoff=1/2v.

i.τoff<8><7>、<8>式中的τon,對橋式電路和單端電路是不同的。對橋式電路τon=ton+trr,trr為反併聯二極體的反向恢復時間。

對單端電路τon=ton.對於τoff,不管橋式或單端電路τoff=toff.3.

在相同拓撲電路和應用條件下f**和結溫tj的計算應用條件:橋式硬開關電路,tj≤125℃,tc≤80℃,v=300v,i=30a,d=0.5,fs=100khz.

將上述條件代入<7>和<8>式以及<1>-<4>式,結果如表2所示表2

四、分析和討論

igbt能否代替mosfet,首先要考慮在相同的使用條件下,可使用的開關頻率f**是否滿足要求,再考慮tj是否小於125℃。

在上述應用條件下,apt30gp60b和apt5010b2ll可使用頻率均大於100khz,而tj 均低於125℃。若在fs≤120khz下使用,兩者均能滿足tj<125℃要求,所以在上述條件下apt30gp60b可代替apt5010b2ll.

MOSFET與IGBT的區別IGBT的引數

mosfet 金屬 氧化層 半導體 場效電晶體,簡稱金屬氧化物半導體場效電晶體 metal oxide semiconductor field effect transistor,mosfet 是一種可以廣泛使用在模擬電路與數位電路的場效電晶體 field effect transistor mos...

MOSFET用作開關時的特性與計算方法

4.9功率型mosfet用作開關 the power mosfet used as a switch 4.9.1概論 introduction 雖然場效應電晶體 field effect transistor fet 應用於電路設計上己有許多年了,而近年來功率型金屬氧化半導體場效應電晶體 metal...

Vplex與RecoverPoint的區別

1 vplex是分布式儲存系統,利用分布式一致性cache實現分布式scale out,該cache為所有儲存節點所共享讀取,存放資料指標,各個儲存節點通過指標知道資料存放位置,vplex通過網路層虛擬,對主機遮蔽了下層,vplex metro通過類似mirror方式,實現本地生產a與異地災備b節點...