一、填空及選擇
1、（ ）是x射線衍射分析等方法的技術基礎；非相干散射在一般情況下則給衍射分析帶來不利影響.
2、掃瞄電鏡二次電子像的襯度包括磁襯度、成分襯度、（ ）和形貌襯度。
3、x射線檢索手冊按檢索方法可分為兩類，一類為字母索引，另一類為（ ）索引。
4、x射線衍射波具有兩個基本特徵—衍射方向和衍射（ ），二者與晶體內原子分布規律密切相關。
5、多晶體衍射儀計數測量方法分為連續掃瞄和步進(階梯)掃瞄兩種一般用於對樣品的定量分析。
8、dsc曲線是描述試樣與參比物之間的與溫度關係的一種熱分析方法。
9、x射線檢索手冊，按檢索方法可分為兩類，一類為另一類為字母索引。
10、掃瞄電鏡通過檢測器檢測到具有不同能量的訊號電子，最常用的訊號電子有背散射電子和（ ）。
13、微商熱重法是在程式控制溫度下，測量物質與溫度關係的一種技術。
14、電子探針儀使用的x射線譜儀有波譜儀和（ ）兩類。
15、人射電子照射固體時將與固體中的電子、原子核等作用而發生散射，電子散射有彈性和非彈性散射之分，非彈性散射產生各種激發現象，稱為
16、電子探針分析有3種基本工作方式，一是二是線掃瞄分析；三是面掃瞄分析。
19、進行微商熱重分析的基本儀器為（ ）。
a、熱天平； b、新型熱天平； c、差示熱電偶
20、掃瞄電鏡背散射電子像的襯度包括形貌襯度、成分襯度。
21、簡單斜方點陣陣胞內陣點數為1，其陣點座標為
22、差熱分析曲線受多種因素影響，大體可分為儀器因素和操作因素，儀器因素主要包括坩堝材料與形狀、熱電偶效能等。
23、透射電鏡間接樣品的製作涉及復型，按製備方法，復型主要分為一級復型、二級復型和（ ）復型．
24、入射x射線可使樣品產生產生很多現象，其中是x射線衍射分析方法的技術基礎。
25、影響衍射強度的其他因素可以引入相應的修正因子，包括多重性因子、吸收因子等。
26、晶胞衍射強度ib= |f|2ie， | f |稱為
27、目前x射線物相定量分析的儀器主要採用衍射儀，其定量分析方法包括（ ）。
28、原子散射強度ia = f2 ie，f為（ ）。
29、多晶體x射線衍射方法包括照相法與（ ）。
30、利用投影到螢光屏上的選區衍射譜進行透射電鏡成像操作中，包括明場成像、暗場成像和
31、透射電鏡像襯度從根本上可分為振幅襯度和相位襯度，振幅襯度分為兩個基本型別和衍射襯度。
32、影響x射線衍射強度的因素中是等同晶面個數對衍射強度的影響因子。
33、多晶體衍射儀計數測量方法分為連續掃瞄和步進(階梯)掃瞄兩種，步進(階梯)掃瞄精度高，並受和步進時間影響。
34、x射線檢索手冊，按檢索方法可分為數值索引和字母索引，字母索引的第一項內容為
35、電子探針儀使用的x射線譜儀有和能譜儀兩類。
36、透射電鏡樣品的製作非常複雜，可分為間接樣品和（ ）樣品製備。
37、掃瞄電鏡二次電子像的襯度包括形貌襯度、成分襯度、電壓襯度和（ ）。
38、x射線物相定量分析方法中的內標法，包括k值法、內標曲線法、（ ）等。
a、直接法； b、任意內標法； c、外標法。
39、熱重曲線與微商熱重曲線的對應關係中包括微商熱重曲線上的（ ）與熱重曲線的台階數相等。
a、峰數； b、峰頂點； c、峰面積。
40、x射線光電子譜用於元素定量分析有( )、靈敏度因子法、標樣法等各種方法
a、微分譜法； b、理論模型法； c、內標法。
41、晶胞散射強度ib= |f|2ie，f稱為
a、極化因子； b、原子散射因子； c、結構因子。
42、透射電鏡樣品的製作涉及復型，按製備方法，復型主要分為一級復型、（ ）和萃取復型。
a、間接； b、二級復型； c、萃取
43、入射x射線可使樣品產生產生很多現象，其中產生光電子，是x射線光電子能譜分析方法的技術基礎。
44、影響衍射強度的其他因素可以引入相應的修正因子，包括多重性因子溫度因子等。
45、透射電鏡的成像系統可以由衍射狀態變換到成像狀態，這種變換是通過改變中間鏡的實現的。
46、多晶體x射線衍射儀的核心部件是（ ）。
47、電子探針分析有3種基本工作方式．一是定點分析；二是線掃瞄分析；三是（ ）。
48、透射電鏡的成像系統可以由衍射狀態變換到成像狀態，這種變換是通過改變（ ）的激磁強度實現的。 a、中間鏡； b、物鏡； c、目鏡。
49、多晶體x射線衍射儀中的輻射測量電路是保證（ ）能有最佳狀態的輸出電訊號。 a、測角儀； b、輻射探測器； c、定標器。
50、掃瞄電鏡的解析度是通過測量上兩亮點之間的最小暗間隙寬度，然後除以總放大倍數得到的。
51、人射電子散射有彈性和非彈性散射之分的能量損失可以忽略不計。
52、電子探針分析有3種基本工作方式，其中是一種成像方式。
53、原子散射強度ia= f2ie，f稱為
a、極化因子； b、原子散射因子； c、結構因子。
54、目前x射線物相定量分析的儀器主要採用衍射儀，其試樣有整體樣品和粉末狀樣品之分。對於定量分析方法中的只適用於採用粉末狀樣品。
a、攝譜法； b、內標法； c、直接對比法。
55、電子探針分析有3種基本工作方式．一是定點分析；二是線掃瞄分析；三是（ ）。
56、人射電子照射固體時將與固體中的電子、原子核等作用而發生散射， 與輻射的散射一樣，電子散射同樣有彈性和（ ）散射之分。
57、掃瞄電鏡訊號檢測放大系統的作用是收集產生的各種物理訊號並放大，（ ）是最常用的一種訊號檢測器。
58、透射電鏡的成像系統可以由衍射狀態變換到成像狀態，這種變換是通過改變中間鏡的（ ）實現的。
a、激磁強度； b、參比強度； c、入射強度。
59、掃瞄電鏡二次電子像的襯度包括形貌襯度、成分襯度、（ ）和電壓襯度。
a、電壓襯度； b、磁襯度（第一類）； c、磁襯度（第二類）。
60、利用投影到螢光屏上的選區衍射譜可以進行透射電鏡成像操作，其中選散射電子形成的像稱為（ ）。
a、明場像； b、暗場像； c、衍射像。
61、電子探針的構造與掃瞄電子顯微鏡大體相似，它有三種工作方式，其中（ ）是電子束在樣品表面沿選定的直線軌跡進行掃瞄。
a、定點分析； b、線掃瞄分析； c、面掃瞄分析。
62、利用投影到螢光屏上的選區衍射譜可以進行透射電鏡成像操作，其中選直射電子形成的像稱為（ ）。
a、明場像； b、暗場像； c、衍射像。
63、電子探針的構造與掃瞄電子顯微鏡大體相似，只是增加了接收記錄（ ）的譜儀。
64、透射電鏡像襯度從根本上可分為振幅襯度和（ ），振幅襯度分為兩個基本型別：質厚襯度和衍射襯度。
65、透射電鏡樣品的製作非常複雜，可分為（ ）樣品和直接樣品製備。
66、掃瞄電鏡二次電子像的襯度包括磁襯度、成分襯度、電壓襯度和（ ）。
67、x射線物相定量分析方法包括k值法、直接對筆法、（ ）等。
70、x射線物相定量分析方法中的內標法，包括（ ）、任意內標法、內標曲線法等。
a、直接法； b、基體沖洗法； c、外標法。
71、電子探針的構造與掃瞄電子顯微鏡大體相似，它有三種工作方式，其中（ ）是電子束在樣品表面進行光柵式掃瞄。 a、定點分析； b、線掃瞄分析； c、面掃瞄分析。
72、x射線檢索手冊按檢索方法可分為兩類，一類為（ ）索引，另一類為數值索引。
73、利用投影到螢光屏上的選區衍射譜進行透射電鏡成像操作中，包括明場成像、（ ）和中心暗場成像。
74、微商熱重曲線與熱重曲線的對應關係中包括微商曲線上的峰頂點與熱重曲線的（ ）相對應。
a、台階； b、拐點； c、面積。
75、多晶體x射線衍射儀的核心部分是（ ）。
a、測角儀； b、輻射探測器； c、定標器。
76、掃瞄電鏡通過檢測器檢測到具有不同能量的訊號電子，最常用的訊號電子有二次電子和（ ）。
77、掃瞄電鏡二次電子像的襯度包括形貌襯度、成分襯度、磁襯度和
78、相干散射是x射線衍射分析等方法的技術基礎散射在一般情況下則給衍射分析帶來不利影響.
79、光電子發射過程由光電子的輸運和逸出3步組成。
80、x射線檢索手冊按檢索方法可分為兩類，一類為索引，另一類為數值索引。
81、x射線衍射波具有兩個基本特徵—衍射和衍射強度，二者與晶體內原子分布規律密切相關。
82、利用投影到螢光屏上的選區衍射譜進行透射電鏡成像操作中，包括明場成像、暗場成像和
83、電子探針分析有3種基本工作方式．一是定點分析；二是三是面掃瞄分析。
84、電子探針儀使用的x射線譜儀有和能譜儀兩類。
85、透射電鏡樣品的製作涉及復型，綜合塑料復型和碳復型的某些優點，較為常用的是（ ）。
a、 間接復型； b、塑料—碳二級復型； c、萃取復型。
材料現代分析測試方法複習
xrd x射線衍射 tem透射電鏡 ed電子衍射 sem掃瞄電子顯微鏡 epma電子探針 eds能譜儀 wps波譜儀 xps x射線光電子能譜分析 aes原子發射光譜或俄歇電子能譜 ir ft ir傅利葉變換紅外光譜 raman拉曼光譜 dta差熱分析法 dsc差示掃瞄量熱法 tg熱重分析 stm掃...
材料現代分析方法複習題
1 選擇題 1.m層電子回遷到k層後，多餘的能量放出的特徵x射線稱 b a.k b.k c.k d.l 2.當x射線發生裝置是cu靶，濾波片應選 c a cu b.fe c.ni d.mo。3.當電子把所有能量都轉換為x射線時，該x射線波長稱 a a.短波限 0 b.激發限 k c.吸收限 d.特徵...
材料現代分析方法複習要點總匯
x射線衍射束的強度 1.粉未多晶的衍射線強度 2.影響衍射線強度的因素 1.粉未多晶的衍射線強度 布拉格方程是產生衍射的必要條件，但不是充分條件，描述衍射幾何的布拉格定律是不能反映晶體中原子的種類和它們在晶體中的座標位置的。這就需要強度理論。1 衍射線的絕對強度與相對強度 絕對強度 積分強度 累積強...