反滲透水處理裝置分為兩部分，一部分是預處理除錯，一部分是反滲透主機除錯部分，預處理主要是正反洗石英砂，活性炭，使細小砂炭以及雜質沖洗掉，控制進水的水量，反滲透主機除錯主要是調節進水，出水的流量以及壓力，總結起來為一下幾點：
1、對裝置的進水進行分析、測試，結果表明符合進水要求，方可進行裝置通水除錯。
2、對高壓幫浦的壓力控制系統進行調整。
3、檢查裝置所有管道之間連線是否完善，壓力表是否齊全，低壓管道連線是否緊密，是否短缺。
4、全開壓力表開關和總進水閥、濃水排放閥、產水排放閥。
5、啟動預處理裝置，並調整供水量大於裝置總進水量。
6、對砂炭過濾器進行反洗和正洗，直至出水清亮為止。
7、啟動高壓幫浦，並緩緩開啟裝置總進水閥，控制裝置總進水壓力小於0.5mpa，沖洗5分鐘，並檢查各高、低壓管路、儀表是否正常。
8、調整進水閥、濃水排放閥，使進水壓力達到1.0～1.4mpa。
9、檢測產品水電導率，符合要求時開啟產品出水水閥，關閉產水排放閥。
10、ro裝置的除錯均是手動單步操作，執行正常後，方可切換到自動狀態，由**儀表及自動控制執行。
11、啟動再生系統，看再生系統是否正常工作。
反滲透除錯最要注意的是：切記出水閥關閉而開啟高壓幫浦，這樣是會產生很大損傷，所以除錯的時候一定要注意管道是否是處於同路的狀態才能啟動水幫浦。
反滲透水處理裝置的流程說明
反滲透一般包括原水幫浦 加藥裝置 石英砂過濾器 活性炭過濾器 精密過濾器等。其主要作用是降低原水的汙染指數和餘氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。下面我們一起來了解一下反滲透水處理裝置的工藝流程。反滲透純水裝置工藝流程 1.原水罐 儲存原水，用於沉澱水中的大泥沙顆粒及其它可沉澱物質。同時緩衝原水管中...
電子行業反滲透水處理裝置工藝
電子行業在元件生產時會需要大量的清洗用水，清洗用水的水質必須要達到一定的電阻率才能保證清洗乾淨，不會留下殘留物質。反滲透水處理裝置的出水水質可以達到電子行業的用水標準。電子元器件生產過程中需要大量高品質的純水 超純水,例如液晶顯示器，線路板 半導體，積體電路晶元，映象管等用的純水，對水的純度要求較高...
反滲透水處理裝置組成原理及技術詳解
一 反滲透水處理裝置概述 隨著工業上對用水的要求越來越高，加上膜材料 製膜方法的不斷發展，膜分離技術也得到了很大的擴充套件。其中，反滲透裝置處理水也得到了很好的發展。反滲透水處理裝置原理 半透膜將溶液與純溶劑分開，因為存在著濃度差，純溶劑會向溶液一側擴散，這就叫滲透。若在溶液一側加壓，使壓力超過滲透...