電子行業在元件生產時會需要大量的清洗用水，清洗用水的水質必須要達到一定的電阻率才能保證清洗乾淨，不會留下殘留物質。反滲透水處理裝置的出水水質可以達到電子行業的用水標準。
電子元器件生產過程中需要大量高品質的純水、超純水,例如液晶顯示器，線路板、半導體，積體電路晶元，映象管等用的純水，對水的純度要求較高，需要採用反滲透水處理裝置來製取。
反滲透水處理裝置在電子行業中的作用
隨著電子工業的發展對高純水提出了越來越高的要求。例如，製作16k位dram允許水中toc(總有機碳)為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個/毫公升;而製作16m位dram時，則要求toc<5ppb、金屬離子<0.
2ppb、水中≥0.1μm顆粒數為0.6個/公升。
可以說在電子級超純水製備系統中匯集了當前水處理技術最先進的工藝和裝置,如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子(edi)等,其中反滲透裝置是整個純水、超純水製備系統工程中一關鍵的裝置.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性無機物質、99%以上的相對分子質量大於300的有機物、99%以上的包括細菌在內的各種微粒和95%以上的二氯化矽.
反滲透工藝在純水、超純水製備系統工程中的應用,不但能提高了產水品質,降低生產成本,而且防止環境汙染,有力地推進了電子工業的進步,同時也促進了純水、超純水製造技術的發展。
反滲透水處理裝置已被廣泛應用在電子工業中，由於其穩定的出水水質，簡單的操作，方便快捷，備受電子行業的寵愛。
反滲透水處理裝置的流程說明
反滲透一般包括原水幫浦 加藥裝置 石英砂過濾器 活性炭過濾器 精密過濾器等。其主要作用是降低原水的汙染指數和餘氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。下面我們一起來了解一下反滲透水處理裝置的工藝流程。反滲透純水裝置工藝流程 1.原水罐 儲存原水，用於沉澱水中的大泥沙顆粒及其它可沉澱物質。同時緩衝原水管中...
反滲透水處理裝置除錯主要步驟描述
反滲透水處理裝置分為兩部分，一部分是預處理除錯，一部分是反滲透主機除錯部分，預處理主要是正反洗石英砂，活性炭，使細小砂炭以及雜質沖洗掉，控制進水的水量，反滲透主機除錯主要是調節進水，出水的流量以及壓力，總結起來為一下幾點 1 對裝置的進水進行分析 測試，結果表明符合進水要求，方可進行裝置通水除錯。2...
反滲透水處理技術工藝優勢詳細分析
反滲透簡稱ro，是六十年代發展起來的一種膜分離技術，其原理是原水在高壓力的作用下通過反滲透膜，水中的溶劑由高濃度向低濃度擴散從而達到分離 提純 濃縮的目的，由於它同自然界的滲透方向相反，因此稱它為反滲透。反滲透裝置可以去除水中的細菌 病毒 交替 有機物和98 以上的溶解性鹽類。該方法具有執行費用低，...