濺射靶材的應用領域介紹

濺射靶材主要應用於電子及資訊產業,如積體電路、資訊儲存、液晶顯示屏、雷射儲存器、電子控制器件等;亦可應用於玻璃鍍膜領域;還可以應用於耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

濺射是製備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體並沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。

各種型別的濺射薄膜材料無論在半導體積體電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面塗層等方面都得到了廣泛的應用。因此,對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。近年來我國電子資訊產業飛速發展,積體電路、光碟及顯示器生產線均有大量合資或獨資企業出現,我國已逐漸成為了世界上薄膜靶材的最大需求地區之一。

非晶矽薄膜發展面臨的瓶頸問題

非晶矽薄膜工藝因**及技術問題再次遭遇發展瓶頸，先是美國應用公司稱將不再銷售非晶矽薄膜生產裝置;再有國內光伏巨頭尚德停止非晶矽薄膜生產而轉向晶體矽生產。這一切似乎表明：非晶矽薄膜遇到了乙個是否能繼續發展的難題。

經業內人士分析，造成一現象的主要原因是由於晶體矽**下降的速度比非晶矽薄膜速度快，非晶矽薄膜**優勢已經不是很明顯。當然，部分企業停止生產非晶矽薄膜，並不意味著這一工藝路線面臨技術淘汰;相反，從長期看，非晶矽薄膜技術的研發工作仍然會繼續。

其次，也有一定的技術原因：薄膜電池遠不如晶體矽電池成熟，雖然近年來非晶矽薄膜技術也在不斷進步，但薄膜電池與晶體矽電池相比仍有很大差距。技術路徑仍處於不斷完善和突破的過程中。

無錫尚德此次叫停薄膜業務，體現了這一發展路徑短時期內存在的問題和瓶頸。

綜上所述，光伏專案的工藝路線目前不會出現太大的變化，薄膜太陽能電池在中國太陽能電池產業中的比重僅佔10%左右。在未來10年到20年以內，晶體矽仍然佔據主導地位。