EDI裝置的化學清洗及再生

2022-12-28 11:36:04 字數 4717 閱讀 6280

膜塊堵塞的原因主要有下面幾種式:

o 顆粒/膠體汙堵

o 無機物汙堵

o 有機物汙堵

o 微生物汙堵

清洗方法時間(分) 備註

酸洗30-50

鹼洗30-50

鹽水清洗35-60

消毒25-40

沖洗≥50

再生≥120 根據系統的工藝要求直至達到出水電阻率要求指標

單個膜塊清洗時藥液配用量

型號藥液配用量(公升) 備註

mx-50 50 1. 酸洗溫度15-25℃

2. 鹼洗溫度25-30℃

3. 配藥液用水必須是ro產水

或高於ro產水的去離子水

mx-100 80

mx-200 110

mx-300 150

對於膜塊數量大於1塊時,按表中配液的數量乘以膜塊數量

edi膜塊的再生

o 確認edi膜塊內沒有任何的化學藥品殘留存在。

o 使系統構建成乙個閉路自迴圈管路。

o 按照正常執行的模式調節好所有的流量和壓力。

o 給edi送電,調節電流從2a開始分步緩慢向edi載入電流(最大不能超

過4a)。

o 直至產水電阻率達工藝要求到或者≥12mω.cm

o 提示:膜塊的再生是乙個比較長的時間,有時可能會長達10-24小時甚

至更長的時間。

edi執行維護注意事項

注意:試車、操作及維護前,請詳閱edi廠家所提供操作維護手冊. 本注意事項僅提醒使用者於試車、操作及維護時需要特別注意之事項,詳細操作維護內容請詳閱edi廠家所提供操作維護手冊.

一、 進流水質要求與必要之附屬裝置

(一)進流水質要求: 前處理系統一定要有 ro 系統,且要確保 ro 系統操作正常. 進流水質最低要求如下:

1 導電度(包括 sio2 及co2) μs/cm < 40

2 溫度 ℃ 5 - 45

3 壓力 psi 20-100

4 自由餘氯(cl2) ppm < 0.02

5 鐵(fe)、錳(mn) ppm < 0.01

6 硫化物(s- ) ppm < 0.01

7 ph 4-11

8 總硬度(as caco3) ppm < 1.0

9 二氧化矽(sio2) ppm < 1.0

10 總有機碳(toc) ppm < 0.5

備註: 1. 導電度計算方式=導電度計測量之導電度+2.66xco2 濃度(ppm as co2)+1.94xsio2(ppm as sio2)

2. 啟動初期應特別注意進流硬度、二氧化矽濃度,應避免超過1.0ppm.

(二)附屬裝置: 為了保護模組及便利後續系統監測,強烈建議 edi 系統應至少包括下列附屬裝置:

1. 穩定的電源**裝置:為了維持系統操作穩定,電源**系統應供給穩定的直流電源給模組,且系統能在定電流模式下操作(v=ir, 亦即設定電流(i)後,電流並不會隨進流水質改變,進流水質改變僅會影響電阻(r)及電壓(v)).

2. 流量開關或流量控制裝置:為了保護模組,當沒有水進入模組時, 模組電源必須馬上被關閉,流量開關需與電源**連動.

3. 壓力計:應至少於進流端與產水、濃縮水出水端設定壓力計,以監測進出水壓力.

4. 進出水流量計:方便調整產水率.可使用附控制點之流量計(可作為流量開關使用).

5. 系統控制(plc 控制):系統除了控制沒水進入時之斷電裝置外,亦應控制在進流水進入一段時間後,若電源仍無**,應停止進流(例如幫浦啟動30 秒後(視幫浦至edi 距離調整時間),若電源仍無**, 則應關閉幫浦,並發出警報),以避免edi 膜堆內樹脂飽和,影響後續產水水質。

二、 試車注意事項:

(一)試車前檢查

1. 試車前應檢查管路、配件及控制系統是否安裝完成,各項檢查前應先關閉電源,以維護人員安全.

2. 模組扭矩檢查:依照操作手冊 3.

2 節檢查並鎖緊. 聯接螺栓扭矩 1-8 25 11-14 12.5 9, 10 10 工具:

扭矩扳手(19mm)+活動扳手

3. 管路檢查:檢查配管路線及閥門開關.

4. 電源控制檢查(以ionpure 原廠電源控制為例):

1.)檢查整流器及顯示板 jumper 的選擇是否正確:

甲、 acv:例如 lx30,需要 660v,則選擇 660v(共有 440,550, 660 三個選項).

乙、 dc :選擇最高電流限制,例如:lx 選擇10a(共有 2.5, 4, 6.5, 10a 四個選項).選擇之電流需與顯示板上之選擇相同.

丙、 頻率:選擇 60hz 或50hz.

2.)檢查變壓器至控制版接線(t1, t2)及至模組接線.

3.)檢查接地線(dc-).

4.)選擇控制模式:選擇定電流控制(a)或定電壓(v)(建議選擇定電流控制).

5.)檢查流量開關.

5. 確認進流幫浦容量:進流幫浦之汲水流量需滿足系統所需之流量,同時其揚程需能克服各項裝置及管路壓損(lx 模組壓損約 1.5-2bar(與處理量相關)).

ionpure 原廠顯示板背面 jumper 調整 ionpure 原廠控制板背面 jumper 調整及接線

(二)試車所需注意事項

1. 確認 ro 系統操作是否正常?建議 ro 系統操作穩定後,才將進流水切換至 edi 系統,以避免 ro 啟動初期水質較差,影響模組效能.

2. 檢測進流水水質:檢測進流水水質,以確認進流水質符合要求,檢測專案至少包括導電度、總硬度、二氧化矽、總氯及 co2.

若水質有任一項不符前述進流水質要求,即不可將水汲入 edi 模組,並需檢查前處理是否有問題. 若進流水 co2 濃度太高(超過 5ppm),即不建議將濃縮水回流至 ro 系統前貯槽(除非先將 co2 去除),以避免造成 co2 累積,影響產水水質.

3. 清洗管路:注意:

為避免管路中殘留管屑等汙染物進入模組造成堵塞,建議在未試車前(包括架台配管時),先不要將原廠所附進出口之紅色套頭取出(但試車前一定要將該物取出). 在水進入模組前,需先確定其前處理管路中已無管屑等汙染物.建議於啟動前先將模組進水接頭拆開,並以 ro 水沖洗管路.

4. 測試各項安全保護裝置:

1.)測試進流水幫浦浦與edi 連動裝置:測試進流水幫浦浦與 edi 連動裝置,使得 edi 只有在進流幫浦浦啟動時才開啟電源,且當 edi 電源沒有開啟一段時間後要關閉進流水幫浦浦.

2.)流量開關測試:啟動前需先測試流量開關是否會動作,亦即沒水時電源關閉,通水啟動流量開關後(迴路連通),直流電源才**至模組.

5. 系統啟動注意事項

1.)當上述安全保護測試完成後,再一次檢查管路閥門開關,確定閥門開關正確後,才啟動進流幫浦浦.

2.)進流幫浦浦啟動後,檢查電源**是否正常啟動.例如,以ionpure 原廠顯示板為例,顯示板上燈號會由 standby 跳至 on,若無,先關閉進流幫浦浦,並檢查流量開關及各接線是否正常.

3.)進流幫浦浦啟動後,以手動閥(最好是用膜片閥,以方便調整)調整產水及濃縮水流量,初期產水率先調整為 90%.

4.)剛啟動時,先將電流調小(例如 0.5a),確定水流及電源沒問題後, 再將電流慢慢調整到軟體計算所需之電流值(與進流水質、水量相關),觀察電壓及出水水質.

啟動初期水質可能較差,切勿因水質不佳,即貿然調高電流至遠超過軟體所計算之值. 例如:進流水質導電度– 10μs/cm, co2 – 8mg/l, sio2 – 0.

2mg/l 時, 以計算軟體計算所需之電流為 2.43 安培,則設定電流在約 2.5 安培即可(以水質最差時計算),切勿一開始即將電流調整超過該值(例如4.

0 安培),以避免損壞模組.

5.)觀察進出水壓力,並以手動閥調整,使產水水壓略高於濃縮水壓約 2-5psi(若產水出口壓力低於濃縮水壓力,會影響產水水質).

6.)為避免 edi 啟動初期產水水質不佳,建議於產水端設定二只自動控制閥,並以 plc 控制:當產水水質低於要求時,將edi 產水回流至 edi 前貯槽,當水質高過設定水質時,才切換至下一處理裝置.

7.)當系統在穩定狀態(水質符合要求且操作穩定)時,應依據操作手冊4.0 章最後所附的資料表上記錄操作資料(檢測專案至少需包括進水溫度、導電度、總硬度、co2,產水電阻值,進出口流量及壓力(含濃縮端),操作電壓、電流),以利後續裝置檢修.

三、 操作維護注意事項

1. 應每天填寫ip-lx 系統記錄表,以便及早發現是否有可能會使保修失效或對膜堆造成破壞的問題.

2. 應至少每六個月對膜堆進行一次膜塊外觀檢測,檢查是否有漏水或鹽類沉積;並定期旋緊所有電氣連線頭及按照 3.2 章節的規定,檢查膜堆螺栓的扭矩.

3. 在下述情況下,膜堆可能需要清洗:

溫度和流量不變,產水壓降增加50%;

溫度和流量不變,濃水壓降增加50%;

溫度、流量、或進水電導率不變,產水水質下降;

溫度不變,膜堆的電阻增加25%. 清洗方法請參考操作維護手冊.

4. 若模組發生故障可參考原廠所附操作維護手冊內之膜堆故障檢測流程或聯絡當地en-link服務商.

四、 有助於 edi 系統穩定及水質提公升的前處理設計為增加edi系統穩定度及提公升產水水質,可於前處理增加下列裝置

1. 去除 co2 裝置:一般 ro 產水皆含有一定量之co2,若能將進流水co2 濃度降低,將有助於產水水質提公升及減少結垢可能性;

2. uv:於edi 前增設紫外線殺菌器(uv)可減少模組長菌可能;

3. 精密過濾器:於edi 前增設精密過濾器可避免微細顆粒物進入模組,造成堵塞;

4. two pass ro:當原水硬度及二氧化矽濃度相對較高或變化較大時, 為避免原水水質變化大或軟化系統出問題時,ro 產水硬度、二氧化矽濃度超過edi 進流水標準,或減少edi 模組結垢可能性,建議前處理採用 two pass ro 系統。

edi膜塊結垢的清洗方法

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