stnf-40
純水裝置使用
說明書西安欣勝泰水處理環保科技****
目錄一、前言 1
二、裝置概況 1
1、工藝流程 1
2、主機配置 1
3、進水引數要求 2
三、裝置的安裝與除錯 3
1、裝置的安裝 3
2、裝置的除錯及執行 4
四、裝置維修與保養 5
1、濾芯更換 5
3、系統注意事項 8
五、常見故障及排除 8
1、欠壓 8
2、純水流量不正常 9
3、其它故障 9
六、附錄 10
七、面板操作規程 11
八、電氣圖 12
附錄：合格證和整機裝箱單 12
一、前言
本說明書主要用於幫助使用者能夠正確安裝和使用本公司的nf（鈉濾）裝置。保證裝置處於最佳執行狀態，並延長使用壽命。基於科學的態度，請使用者在安裝及使用nf裝置前，認真閱讀本操作說明書。
納濾膜介於反滲透膜與超濾膜之間，早期稱為鬆散反滲透膜，其脫除原理與反滲透膜相似，主要去除直徑為1奈米（nm）左右的溶質粒子，截留分子量為100~1000，在飲用水領域脫除三滷甲烷中間體、異味、色度、農藥、合成洗滌劑，可溶性有機物、ca、mg等硬度成分及蒸發殘留物質，一般脫除率為70%左右，廣泛應用於軟化水處理、飲用水有害物質的脫除、生活汙水處理、化工工藝過程水溶液的濃縮以及食品、飲料、製藥行業。
本納濾裝置的產水能力為40t/h。裝置的生產能力是在原水在25℃、標準生產狀況下的值。水溫及生產條件的改變都將影響裝置的生產能力。
二、裝置概況
預處理出水—→保安過濾器—→高壓幫浦—→納濾膜—→純水箱
工藝流程圖以及電路圖請參見附圖
nf裝置對進水及執行引數有一定的要求，進水條件及工況的改變將導致本裝置生產能力的改變。不符合要求的進水和工況可能導致膜元件的汙染和損壞。如果本裝置執行在非規範的生產條件下而導致裝置效能受損，此種情況下，裝置不在質保範圍之內。
三、裝置的安裝與除錯
1）nf裝置應盡量安裝於通風乾燥的環境。
潮濕不通風環境可導致：微生物滋長而影響裝置安全正常執行；影響出水水質；電器元件也將受到損壞；裝置機架等材質受腐蝕。
2）系統的工場應作安裝前規劃。可同我公司作技術溝通。
具體應考慮：系統的維護改建空間；通風排水結構；地面、牆壁作適當處理以防潮濕、霉變、腐蝕、細菌滋長。
3）安裝地點應保證環境溫度在5-45℃之間。
4）裝置就位後，用upvc、abs或不銹鋼管閥進行連線。管道要求固定。
5）電器電線連線要求由合格電器技術人員操作。必須考慮可靠的接地。
6）電器的安裝可根據電路圖進行，電源引數應與裝置要求一致。
納濾系統的長期效能取決於正常的操作與維護，包括裝置的試車、開始執行與平時操作管理。當然，合格的預處理為裝置執行的必需。
執行準備
1、開機前,觀察預處理水箱水位是否正常,原水壓力是否正常。總電源是否合上並接通。
2、檢查所有閥門，以確定閥門處於正確狀態。將nf 裝置上濃水排放閥開啟。產水排放或接入純水箱。
3、開啟電控櫃上總電源開關。開啟預處理，觀察預處理供水正常，出水符合納濾進水要求。
啟動1、開啟保安過濾器前閥，讓合格之預處理水進入保安過濾器，保安過濾器排氣。當預處理水壓達到0.2mpa時,即可啟動高壓幫浦。nf裝置即進入自動沖洗狀態。
2、待主機完成自動快沖洗後，即進入執行狀態。應立即調節濃水調節閥使裝置達到額定的操作壓力。純水水量達到設定值。此時**率應控制在50%左右。
應注意：
a 執行時操作壓力不應大於0.7 mpa；
b 濃水調節閥在任何時候都不可關閉；
c 執行中純水管路中不可設定任何節流器材；
d 盡量降低裝置的操作壓力，增加膜組濃水流量。裝置在開啟後應盡量少停機。
3、本裝置具有原水低壓保護功能。當原水供壓不足，高壓幫浦進口壓力下降超過極限值時，低壓控制器自動停止裝置執行，當壓力恢復後自動啟動裝置。當發生上述情況時，應立即調整相應引數。
4、建議使用者建立裝置執行記錄。
5、新裝置執行時，新產水應排放1小時再收集。
關機1、首先關閉高壓幫浦，切斷主機電源，關閉nf裝置的執行。
2、關閉系統總電源。
3、檢查各儀表讀數歸零。
四、裝置維修與保養
乙個好的系統除了有合理的設計，可靠的裝置，優質的選材，精心的安裝外，嚴格的操作管理和維護是唯一的保證。所以建議要有專職的操作管理人員定崗定責，並指定技術人員負責管理。對系統情況要按《系統執行記錄表》要求最少每天記錄兩次，以便分析系統運**況。
對整個系統執行工況進行嚴密監督，對於系統出現的情況要及時分析原因，對易損件、消耗品要有適量庫儲存備。
保安過濾器（5μ）使用的濾芯，更換主要視前後壓差。一般情況下，當壓差大於0.03mpa時應考慮更換。
方法：①將進出水端閥門關上。
②按下排氣閥，直到壓力表指示為零即可。
③然後將頂蓋開啟。
④將濾芯抽出，換上新濾芯。
⑤依相反順序裝頂蓋。
⑥開啟進水閥門，同時按下頂上排氣閥，使濾器內空氣排出即可。
2、膜的清洗：
（1）膜汙染的化學清洗
無論預處理有多麼完善，在長期執行過程中，在膜上總是會日益積累水中存在的各種汙染物，從而使裝置效能（脫鹽率和產水量）下降和元件進、出口壓力公升高，因此需定期進行化學清洗。
（2）清洗條件
①裝置的產水量比初期投運時或上一次清洗後降低5-10%時；
②裝置的脫鹽率比初期投運時或上一次清洗後降低2.5-5%時；
③裝置各段的壓力差值為初期投運時或上一次清洗後的1-2倍時；
④裝置需用長期停運時用保護溶液保護前。
出現上述四種情況之一時，必須進行化學清洗。
（3）膜汙染特徵與清洗劑的選擇
膜上積累的汙染物通常有膠體、混合膠體、金屬氧化物、微溶鹽（如caco3、caso4等）和細菌殘骸等，也有可能幾種汙染物混雜在一起。因此沒有一種萬能的清洗劑，只有根據情況具體對待。膜汙染特徵與清洗劑的選擇一般原則見下表：
汙染物型別與裝置效能的變化
注：(1)發生在24小時之內；
(2)發生在2-3周以上；
(3)無保護劑保護情況下長期停運存放；
△p——元件進出口壓差值； x——初投時或上次清洗後的值。
（4）清洗流程
本系統中的清洗主要對一級nf而言，清洗時利用一級nf產水（流入清洗水箱），以清洗幫浦為增壓裝置。清洗液配製在清洗水箱中，清洗開始時元件濃水、產水排放一段時間（不回清洗水箱），排量控制在清洗液25-30%左右，然後全部閉路迴圈1-2小時。清洗結束水箱中的殘液排盡並充分洗淨水箱，裝置內清洗殘液應用產水低壓沖洗乾淨。
nf裝置恢復使用時，必須重新對nf裝置調節。開始的產水、濃水必須排放地溝一段時間。
（5）清洗注意事項：
1)清洗時操作要有安全防護措施，如帶防護鏡、手套、鞋和衣等，用到nh4oh 調節ph時，要考慮通風；
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