前段array製程:薄膜/黃光/蝕刻/剝膜(一)
液晶面板製造的前段array製程主要是「薄膜、黃光、蝕刻、剝膜」四大部分，如果僅僅是這樣看，很多網友根本不解這四步的具體含義，以及為什麼會這樣做。
首先，液晶分子的運動與排列都需要電子來驅動，因此在液晶的載體——tft玻璃上，必須有能夠導電的部分，來控制液晶的運動，這裡將會用ito（indiumtinoxide，透明導電金屬）來做這件事情。ito是透明的，也成薄膜導電晶體，這樣才不會阻擋背光。
液晶分子排列的不同以及快速的運動變化，才能保證每個畫素精準顯示相應的顏色，並且影象的變化精確快速，這就要求對液晶分子控制的精密。ito薄膜需要做特殊的處理，就猶如在pcb板上印刷電路一般，在整個液晶板上畫出導電線路。
首先，需要在tft玻璃上沉積ito薄膜層，這樣整塊tft玻璃上就有了一層平滑均勻的ito薄膜。然後用離子水，將ito玻璃洗淨，準備進入下一步驟。
接下來，要在沉積了ito薄膜的玻璃上塗上光刻膠，在ito玻璃上形成一層均勻的光阻層。然後烘烤一段時間，將光刻膠的溶劑部分揮發，增加光阻材料與ito玻璃的粘合度。
用紫外光（uv）通過預先製作好的電極圖形掩模版照射光刻膠表面，使被照光刻膠層發生反應，在塗有光刻膠的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對光刻膠進行選擇性**。
●前段array製程:薄膜/黃光/蝕刻/剝膜(二)
我們以乙個畫素單位為例，如上圖，這個畫素中，淺色部分未**，而深色的是**部分。
接著，用顯影劑將**部分的光刻膠清洗掉，這樣就只剩下未**的光刻膠部分，然後用離子水將溶解的光刻膠沖走。
顯影之後需要加熱烘烤，讓未**的光刻膠更加堅固的依附在ito玻璃上
然後用適當的酸刻液將無光刻膠覆蓋的ito膜的蝕刻掉，只保留光刻膠下方的ito膜。ito玻璃為（in2o3與sno2）的導電玻璃，未被光刻膠覆蓋的ito膜易與酸發生反應，而被光刻膠覆蓋的ito膜可以保留下來，得到相應的拉線電極。
●前段array製程:薄膜/黃光/蝕刻/剝膜(三)
剝膜：用高濃度的鹼液（naoh溶液）作脫膜液，將玻璃上餘下的光刻膠剝離掉，從而使ito玻璃形成與光刻掩模版完全一致的ito圖形。
用有機溶液沖洗玻璃基本標籤，將反應後的光刻膠帶走，讓玻璃保持潔淨狀態。這樣就完成了第一道薄膜導電晶體製程，一般至少需要5道相同的過程，在玻璃上形成複雜精密的電極圖形。
用相同的方法在玻璃上拉出其他的ito電極圖形
形成複雜精密的電極圖形，可以更好的控制液晶分子的運動
這樣，前段array製程就結束了。從整個過程不難看出，前面在tft玻璃上沉積ito薄膜、塗光刻膠、**、顯影、蝕刻，最終是為了在tft玻璃上形成前期設計好的ito電極圖形，以便於在玻璃上控制液晶分子的運動。整個生產過程的大致步驟並不複雜，但是技術上的細節和注意事項非常繁瑣，這裡我們就不多做介紹了，有興趣的朋友可以自行查閱相關資料。
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