電鍍PVD簡介

2021-08-04 14:24:06 字數 4545 閱讀 3170

1. pvd的含義 —

pvd是英文physical vapor deposition的縮寫,中文意思是「物理氣相沉積」,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製備技術。

2. pvd鍍膜和pvd鍍膜機 —

pvd(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類,真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應於pvd技術的三個分類,相應的真空鍍膜裝置也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。

近十多年來,真空離子鍍膜技術的發展是最快的,它已經成為當今最先進的表面處理方式之一。我們通常所說的pvd鍍膜 ,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的pvd鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。

3. pvd鍍膜技術的原理 —

pvd鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空條件下,採用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

4. pvd鍍膜膜層的特點 —

採用pvd鍍膜技術鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦係數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

5. pvd鍍膜能夠鍍出的膜層種類 —

pvd鍍膜技術是一種能夠真正獲得微公尺級鍍層且無汙染的環保型表面處理方法,它能夠製備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等)。

6. pvd鍍膜膜層的厚度 —

pvd鍍膜膜層的厚度為微公尺級,厚度較薄,一般為0.3μm ~ 5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ~ 1μm ,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理效能和化學效能,鍍後不須再加工。

7. pvd鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類 —

pvd鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關引數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束後可以用相關的儀器對顏色進行測量,使顏色得以量化,以確定鍍出的顏色是否滿足要求。

8. pvd鍍膜與傳統化學電鍍(水電鍍)的異同 —

pvd鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是,兩者都屬於表面處理的範疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是:pvd鍍膜膜層與工件表面的結合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的效能也更穩定;pvd鍍膜不會產生有毒或有汙染的物質。

9. pvd鍍膜技術目前主要應用的行業 —

pvd鍍膜技術的應用主要分為兩大類:裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命;這方面主要應用五金行業的各個領域,如門窗五金、鎖具、衛浴五金等行業。

工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦係數,提高工件的使用壽命;這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鑽頭等等)、各種五金工具(如螺絲刀、鉗子等)、各種模具等產品中。

10. pvd鍍膜(離子鍍膜)技術的主要特點和優勢 —

和真空蒸發鍍膜真空濺射鍍膜相比較,pvd離子鍍膜具有如下優點:

1 .膜層與工件表面的結合力強,更加持久和耐磨

2 .離子的繞射效能好,能夠鍍形狀複雜的工件

3 .膜層沉積速率快,生產效率高

4 .可鍍膜層種類廣泛

5 .膜層效能穩定、安全性高(獲得fda認證,可植入人體)

真空蒸發鍍膜真空濺射鍍膜真空離子鍍膜三種鍍膜方式的比較

pvd 鍍膜 ( 離子鍍膜 ) 技術和裝置常見問題解答

q1: 請問什麼是pvd?

a1: pvd是英文physical vapor deposition的縮寫,中文意思是「物理氣相沉積」,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製備技術。

q2: 請問什麼是pvd鍍膜? 什麼是pvd鍍膜機?

a2: pvd(物理氣相沉積)技術主要分為三類,真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對於pvd技術的三個分類,相應的真空鍍膜裝置也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。

近十多年來,真空離子鍍技術的發展是最快的,它已經成為了當代最先進的表面處理方法之一。 我們通常所說的pvd鍍膜,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的pvd鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。

q3: 請問pvd鍍膜的具體原理是什麼?

a3: 離子鍍膜(pvd鍍膜)技術,其原理是在真空條件下,採用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質電離,在電場的作用下,使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。

q4: 請問pvd鍍膜與傳統的化學電鍍(水電鍍)相比有何優點?

a4: pvd鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是,兩者都屬於表面處理的範疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。

兩者的不同點是:pvd鍍膜膜層與工件表面的結合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的效能也更穩定;pvd鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;pvd鍍膜不會產生有毒或有汙染的物質。

q5: 請問pvd鍍膜能否代替化學電鍍?

a5: 在現階段,pvd鍍膜是不能取代化學電鍍的,並且除了在不鏽鋼材料表面可直接進行pvd鍍膜外,在很多其他材料(如鋅合金、銅、鐵等)的工件上進行pvd鍍膜前,都需要先對它們進行化學電鍍cr(鉻)。pvd鍍膜主要應用在一些比較高檔的五金製品上,對那些**較低的五金製品通常也只是進行化學電鍍而不做pvd鍍膜。

q6: 請問採用pvd鍍膜技術鍍出的膜層有什麼特點?

a6: 採用pvd鍍膜技術鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦係數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

q7: 請問pvd能在鍍在什麼基材上?

a7: pvd膜層能直接鍍在不鏽鋼以及硬質合金上,對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻,然後才適合鍍pvd。

q8: 請問pvd鍍膜能夠鍍出的膜層種類有那些?

a8: pvd鍍膜技術是一種能夠真正獲得微公尺級鍍層且無汙染的環保型表面處理方法,它能夠製備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(tin[鈦金]、zrn〔鋯金〕、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等)。

q9: 請問pvd鍍膜膜層的厚度是多少?

a9: pvd鍍膜膜層的厚度為微公尺級,厚度較薄,一般為0.1μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.

1μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理效能和化學效能,並能夠維持工件尺寸基本不變,鍍後不須再加工。

q10: 請問pvd鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些?

a10: 我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關引數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束後可以用相關的儀器對顏色值進行測量,使顏色得以量化,以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

q11: 請問目前pvd鍍膜技術主要應用在哪些行業?

a11: pvd鍍膜技術的應用主要分為兩大類:裝飾鍍和工具鍍。

裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命;這方面主要應用五金行業的各個領域,如門窗五金、鎖具、衛浴五金等行業。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦係數,提高工件的使用壽命;這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鑽頭等等)等產品中。

q12: 請問pvd鍍膜的成本是不是很高?

a12: 雖然使用pvd鍍膜技術能夠鍍出高品質的膜層,但是pvd鍍膜過程的成本其實並不高,它是一種價效比非常高的表面處理方式,所以近年來pvd鍍膜技術發展得非常快。pvd鍍膜已經成為五金行業表面處理的發展方向。

q13: 請問pvd鍍膜裝置主要由哪幾部分組成?

a13: pvd鍍膜裝置主要由真空腔體、真空抽氣機組、水冷系統、電源系統、控制系統等幾大部分組成。

q14: 請問真空腔體和真空抽氣機組對pvd鍍膜裝置來說很重要嗎?

a14: 兩者都很重要,他們在很大程度上決定了pvd鍍膜裝置執行的穩定性和使用壽命。真空腔體所採用的材料的質量、腔體的厚度、腔體的水冷方式、腔體焊接方式和組裝的氣密性、腔體材料的放氣率等對鍍膜質量都有很大影響;真空抽氣機組的抽氣速率的穩定性、在不同真空度下的抽氣能力以及真空抽氣機組的故障率對整個鍍膜系統的效能及連續運轉能力的影響也非常大。

所以這兩者對pvd鍍膜裝置來說都很重要。

1. pvd的含義 —

pvd是英文physical vapor deposition的縮寫,中文意思是「物理氣相沉積」,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製備技術。

2. pvd鍍膜和pvd鍍膜機 —

pvd(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類,真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應於pvd技術的三個分類,相應的真空鍍膜裝置也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。

近十多年來,真空離子鍍膜技術的發展是最快的,它已經成為當今最先進的表面處理方式之一。我們通常所說的pvd鍍膜 ,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的pvd鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。

3. pvd鍍膜技術的原理 —

pvd鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空條件下,採用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

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