材料分析方法複習提綱

2022-11-04 08:45:03 字數 1366 閱讀 1489

第一章x射線物理學基礎

一、x射線產生的主要裝置和條件

二、短波限

三、連續x射線(強度公式)四、特徵x射線(莫塞萊定律)

五、x射線吸收(透射)公式——(質量吸收係數:單質、化合物(固溶體、混合物))六、光電效應、螢光輻射、俄歇效應

七、吸收限的兩個應用:濾波片的選擇、靶材的選擇

八、相干散射

九、x射線的產生及其與物質的相互作用(系統掌握一,四~七)

第二章x射線衍射方向

一、晶帶定律及其應用

二、布拉格方程及其應用

三、干涉面

四、倒易向量與正空間中晶面的關係(方向、大小)五、倒易球(多晶體倒易點陣)六、愛瓦爾德**(與布拉格方程等同)七、單晶、多晶衍射花樣特點

第三章x射線衍射強度

一、衍射積分強度(相對強度)

二、常見晶體(簡立方、麵心立方、體心立方)消光規律

第四章多晶體分析方法

一、德拜花樣

二、德拜相機的安裝方法

1三、x射線衍射儀測量在入射光束、試樣形狀、試樣吸收以及衍射線記錄等方面與德拜法有何不同?(x射線衍射儀試樣臺與計數管聯動關係)

第五章物相分析及點陣引數精確測定

一、物相定量分析方法

二、精確測定點陣引數的方法

第六章巨集觀殘餘應力的測定

一、巨集觀殘餘應力的分類及其對x射線的影響二、x射線衍射測定巨集觀應力常用的衍射幾何方法

三、定峰法

第八章電子光學基礎

一、電磁透鏡的作用,焦距,景深和焦長(影響因素,即公式)二、電磁透鏡的解析度(影響因素)

第九章透射電子顯微鏡

一、成像操作

二、衍射操作

第十章電子衍射

一、電子衍射與x射線衍射的不同之處

二、零層倒易面(uvw)*0三、產生衍射的充要條件

四、選區電子衍射

五、了解:單晶電子衍射花樣的標定方法(步驟)六、超點陣斑點

2第十一章晶體薄膜衍襯成像分析

一、衍射襯度

二、明場像、暗場像、中心暗場像

第十三章掃瞄電子顯微鏡

一、電子束轟擊樣品可能產生的幾種訊號

二、二次電子形貌襯度及其主要應用第十四章電子背散射衍射分析技術

一、電子背散射衍射分析技術與x射線衍射分析技術、透射電子顯微分析技術的異同

第十五章電子探針顯微分析

一、電子探針的分析方法原理及其應用

二、波譜儀和能譜儀的優缺點

第十六章其他顯微分析方法

一、了解:離子探針、低能電子衍射、俄歇電子能譜、場離子顯微鏡、原子探針、掃瞄隧道顯微鏡、原子力顯微鏡、x射線光電子能譜、紅外光譜、雷射拉曼光譜、紫外-可見吸收光譜、原子發射光譜、原子吸收光譜、核磁共振、電子能量損失譜、掃瞄透射電子顯微鏡的應用3

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