反滲透膜常見汙染物及其主要去除方法

防止反滲透膜汙染要注意以下幾個問題：

1.在任何情況下不要讓帶有游離氯的水與複合膜元件接觸，如果發生這種接觸，將會造成膜元件效能下降，而且再也無法恢復其效能，在管路或裝置殺菌之後，應確保送反滲透膜元件的給水中無游離氯存在。在無法確定是否有游離氯時，應通過化驗來驗證。

應使用亞硫酸氫鈉溶液來中和殘餘氯，並確保足夠的接觸時間以保證反應完全。

2.在反滲透膜元件擔保期內，建議每次反滲透膜清洗應在與協商後進行，至少在第一次清洗時，現場服務人員應在現場。

3在清洗溶液中應避免使用陽離子表面活性劑，因為如果使用可能會造成膜元件的不可逆轉的汙染。

反滲透膜故障診斷：

常見汙染物及其去除方法

硫酸鈣垢

清洗液2是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。

金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。

矽垢對於不是與金屬氧化物或有機物共生的矽垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除，

碳酸鈣垢

在阻垢劑新增系統出現故障時或加酸系統出現故障而導致給水ph值公升高，那麼碳酸鈣就有可能沉積出來，應盡早發現碳酸鈣垢沉澱的發生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發現碳酸鈣垢，可以用降低給水ph至3.0~5.0之間執行1~2小時的方法去除。

對沉澱時間更長的碳酸鈣垢，則應採用檸檬酸清洗液進行迴圈清洗或通宵浸泡。

注：應確保任何清洗液的ph值不要低於2.0，否則可能會對ro膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，最高的ph不應高於11.

0。可使用氨水來提高ph，使用硫酸或鹽酸來降低ph值。

有機沉積物

有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除，為了防止再繁殖，可使用經認可的殺菌溶液在系統中迴圈、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置在正常壓力下如產品水流量降至正常值的10–15%。

為了維持正常的產品水流量，經溫度校正後的給水壓力增加了10–15%。

產品水質降低10–15%;鹽透過率增加10–15%。

使用壓力增加10–15%。

ro各段間的壓差增加明顯(也許沒有儀表來監測這一跡象)。

停用超過三天時，最好採用消毒處理，請與海德能公司會商以確定適宜的殺菌劑。

清洗液清洗反滲透膜元件時建議採用表2所列的清洗液。確定清洗液前對汙染物進行化學分析是十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據。

對於無機汙染物建議使用清洗液1。對於硫酸鈣及有機物建議使用清洗液2。對於嚴重有機物汙染建議使用清洗液3。

所有清洗液可以在最高溫度為華氏104度(40℃)下清洗60分鐘，所需藥品量以每100加侖(379公升)中加入量計，配製清洗液時按比例加入藥品及清洗用水，應採用不含游離氯的反滲透產品水來配製溶液並混合均勻。